专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种复合润湿刀具及其制备方法-CN202110869230.1在审
  • 符永宏;刘高辉;杨泽檀;周云;谷泽辉 - 江苏大学
  • 2021-07-30 - 2021-11-02 - B23K26/352
  • 本发明提供了一种复合润湿刀具,所述刀具的前刀面上设有层,靠近切削刃附近的所述层上设有亲微织构,用于减小刀屑间的摩擦和粘结。所述亲微织构包括亲织构和亲凹槽织构;所述亲织构为火山口状或球冠状或W状形貌织构,所述亲织构分布在切削刃附近的所述层上,用于储存切削;所述亲凹槽织构位于亲织构后面,用于将切削引导到刀屑接触区域本发明能够实现切削的定向流动,有利于减小刀‑工界面及刀‑屑界面的摩擦力,为刀具减摩抗粘提供便利。
  • 一种复合润湿刀具及其制备方法
  • [发明专利]一种基于调制飞秒激光脉宽制备孔阵列结构的方法-CN202211437438.7在审
  • 王文君;胡磊;梅雪松;崔健磊;潘爱飞;周梦 - 西安交通大学
  • 2022-11-17 - 2023-02-28 - B23K26/382
  • 一种基于调制飞秒激光脉宽制备孔阵列结构的方法,先对基底材料进行预处理,然后进行再入凹角孔阵列结构的制备,最后再进行再入凹角孔阵列结构的构建;通过皮秒量级激光织构技术实现结构制造的同时,复合基底材料表面浸润性调控,实现再入凹角孔阵列结构的制备;再入凹角孔阵列结构除了因为熔融堆积效应生成孔边缘凹角特征,在孔内壁同时生成自上而下的“螺旋状“沟槽结构,间接形成孔内壁上的再入凹角特征结构,具有孔边缘熔融堆积效应生成的一级再入凹角结构特征以及孔内壁经激光和材料冲击强化形成的二级“螺旋状”沟槽再入凹角结构特征;双重再入凹角结构以及孔内气穴的存在使得该结构达到了优异的性能。
  • 一种基于调制激光制备超疏液孔阵列结构方法
  • [发明专利]一种SiO2-CN201810777178.5有效
  • 魏长伟 - 武汉疏能新材料有限公司
  • 2018-07-16 - 2020-11-06 - C09D183/08
  • 本发明公开了一种SiO2纳米功能的制备方法,涉及疏水材料技术领域,在醇类溶剂中加入碱性催化剂和硅酸酯,经搅拌、反应、陈化,制备SiO2纳米颗粒分散;加入低表面能的含氟有机物进行反应修饰,制备SiO2纳米功能。本发明工艺简单,反应可控,成本低廉,功能分散性良好,在工业推广生产和应用中具有重大的社会价值和经济价值。本发明还提供一种SiO2纳米功能的应用,可通过喷涂、刷涂、浸涂等方法涂布于玻璃、塑料、陶瓷或金属等各类基材,形成薄膜;薄膜表面与水的静态接触角可达168.4度,滚动角低至1.5度,与真空泵油的静态接触角可达154.4度,滚动角为7.8度,显示出非常好的功能。
  • 一种超双疏siobasesub
  • [发明专利]一种高耐久疏水油透明涂层及其制备方法-CN201911354429.X在审
  • 莫广侠 - 杭州苏瑞尔科技有限公司
  • 2019-12-24 - 2020-04-07 - C09D133/04
  • 本发明适用于疏水油涂层制备技术领域,提供了一种高耐久疏水油透明涂层及其制备方法,通过将无水乙醇、氨水和去离子水混合以获得底,在40摄氏度的温度下加热底,搅拌底,同时加入正硅酸乙酯,继续搅拌,并加入疏水油剂,反应后获得面漆,将丙烯酸树脂、聚氨酯树脂与溶剂混合,获得底漆,将硅烷偶联剂加入到面漆中并搅拌,将底漆喷涂在基材表面,并喷涂两层,将加入硅烷偶联剂后的面漆喷涂在底漆表面,从而获得高耐久疏水油透明涂层,本发明采用传统结合开创性的工艺方法,在生产过程中无任何排放,生产连续、操作简单、低成本、生产设备简单、节能环保。涂层耐久性好、疏水油。
  • 一种耐久疏水超疏油透明涂层及其制备方法
  • [发明专利]一种膜及其制备方法和应用-CN202110817280.5在审
  • 黄满红;孟李君;郑盛阳;吕嫣;孔壮 - 东华大学
  • 2021-07-20 - 2021-12-03 - B01D71/82
  • 本发明涉及一种膜及其制备方法和应用,该膜包括基体膜以及先后在基体膜上形成的PDA/PEI沉积层和二氧化硅粒子矿层,且该膜具有高含氟表面;制备方法包括:将多巴胺和PEI溶解于Tris缓冲溶液,配制沉积溶液;将润湿后的基体膜置于其中沉积;通过原硅酸四甲酯、盐酸和PBS缓冲配制矿溶液;将沉积膜置于其中进行表面矿;最后对膜表面进行低表面能改性。与现有技术相比,本发明膜的粗糙表面结构以及超低表面能赋予膜特性,使得其水接触角大于167°,矿物油接触角大于135°,该膜用于DCMD工艺时,能够抵御含有0.5mM SDS的高盐水的润湿,获得稳定的
  • 一种超双疏膜及其制备方法应用
  • [发明专利]一种薄膜核态沸腾相变冷却结构及其制造方法-CN202311001464.X在审
  • 付融;陈钏;李君;王启东 - 中国科学院微电子研究所
  • 2023-08-09 - 2023-10-10 - H01L21/48
  • 本申请实施例提供了一种薄膜核态沸腾相变冷却结构及其制造方法,包括:在第一衬底上形成沸腾腔结构。从第二衬底的第一表面刻蚀第二衬底,形成多个凹槽。从第二衬底的第二表面刻蚀第二衬底至凹槽,形成多个孔道。在第一表面形成纳米针状结构,利用表面疏水硅烷偶联剂修饰纳米针状结构,形成纳米针状表面结构。纳米针状表面结构和孔道构成多孔硅膜结构,结合沸腾腔结构和多孔硅膜结构,这样液体就可以在沸腾腔结构和多孔硅膜结构之间形成膜,并且利用多孔硅膜结构实现气泡脱离膜并且排出。通过制造多孔硅膜结构包括的孔道以及纳米针状表面结构,能够极大的提高气分离效率。
  • 一种薄液膜核态沸腾相变冷却结构及其制造方法

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